石墨烯是一种以sp²杂化连接的碳原子紧密堆积成单层二维蜂窝状晶格结构的新材料。石墨烯具有优异的光学、电学、力学特性,在材料学、微纳加工、能源、生物医学和药物传递等方面具有重要的应用前景,被认为是一种未来革命性的材料。化学气相沉积法(CVD)是可控制备大面积石墨烯的一种最常用的方法。它的主要原理是利用平面金属作为基底和催化剂,在高温环境中通入一定量的碳源前驱体和氢气,相互作用后在金属表面沉积而得到石墨烯。铭珏金属生产的石墨烯专用铜箔具有纯度高、稳定性好、晶圆均匀、表面平整等特点,是CVD制程中理想的基底材料。
产品优势
纯度高、稳定性好、晶圆均匀、表面平整等特点。
相关型号
高精压延铜箔
HTE高延展箔
*注:上述产品均可在本公司其他类目中找到,客户可以根据实际应用需求选取;
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