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高性能电解铜箔 从标准到极低轮廓的完整解决方案产品示意图

Electrodeposited Copper Foil Family · 电解铜箔全系列产品

高性能电解铜箔 从标准到极低轮廓的完整解决方案

覆盖 HTE、RTF、LP、VLP、HVLP、BCF 六大系列, 厚度范围 3.5–420 μm,满足常规 PCB 到 AI 服务器、5G 毫米波的全谱系需求。 每一款都经过 IPC-4562 认证,为高频高速电路提供可靠的材料基础。

·产品特点

  • 6 大系列 完整产品线
  • Rz ≤ 1 μm 最低粗糙度
  • 3.5–420 μm 厚度覆盖
  • IPC-4562 国际认证
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粗糙度演进路线

Surface Roughness Evolution · 粗糙度演进路线

HTE
高温高延伸
Rz 7–8μm
RTF
反转处理
Rz 4–6μm
LP
低轮廓
Rz 3–4μm
VLP
甚低轮廓
Rz ≤ 2μm
HVLP
极低轮廓
Rz ≤ 1.5μm

Product Series · 产品系列

六大铜箔系列详解

每一款都有明确的定位:从成本敏感型消费电子到严苛的高频高速场景,总有一款匹配您的需求。

HTE
High Temperature Elongation · 高温高延伸性铜箔(又称 HD 铜箔)
主力畅销

在高温(180°C)下仍能保持优异延伸率的特种铜箔——高温延伸率不低于室温值的 30%。 多层 PCB 在压合过程中会产生高温,普通铜箔易发生再结晶导致内层线路"铜裂"; HTE 通过特殊的合金成分与热处理工艺解决了这一痛点。 是目前国内市场占有率最高的高端铜箔品类之一,广泛应用于多层板与高 Tg 板材。

表面粗糙度 Rz7–8 μm
180°C 高温延伸率≥ 室温值的 30%
常用厚度12 / 18 / 35 / 70 μm
核心优势抗拉强度高、抗底蚀能力强、耐高温不脆裂
典型应用多层印制板、高 Tg FR-4 板、汽车电子控制板
RTF
Reverse Treated Foil · 反转铜箔 / 双面处理铜箔
高速板主流

对电解铜箔的光面也进行粗化处理,使两面均具备良好的结合力。 两面的处理程度不同——贴向介质层的一面更粗糙以增强附着力, 另一面较薄更易于蚀刻。作为多层板的内层铜箔使用时, 可省去压合前的黑化(氧化)处理工序,提升生产效率。 是目前高频高速覆铜板的主流选择之一,兼顾性能与成本。

表面粗糙度 Rz4–6 μm
双面处理是 — 鼓面 + 光面均经粗化
典型 Df0.010 – 0.015(Mid Loss 级)
主要优势省去内层黑化工序、两面结合力均衡、蚀刻性优于 STD
典型应用多层板内层、智能手机主板、服务器背板、中速数字电路
LP
Low Profile · 低轮廓铜箔
高速入门

表面粗糙度首次降至 3–4 μm 级别的过渡型产品。 结晶结构细腻(< 2μm),呈等轴晶粒而非传统柱状晶体, 层状结晶且棱线平坦。相比 STD 和 RTF,信号传输损耗明显降低, 是进入高速电路领域的经济型选择。蚀刻后无铜粉转移残留, 表面电阻和绝缘电阻特性更优。

表面粗糙度 Rz3–4 μm
晶粒形态等轴细晶,非柱状
典型 Df0.0065 – 0.01(Low Loss 级)
关键特性无铜粉转移、热稳定性好、阻抗控制优良
典型应用高速数字 PCB(≤ 10 Gbps)、工控设备、网络通信设备
VLP
Very Low Profile · 甚低轮廓铜箔
高频高速主力

表面粗糙度 ≤ 2μm 的超平滑铜箔,通过精密电解沉积工艺生产。 双面均达到极低粗糙度水平,等轴细晶结构确保各向同性。 极大降低了趋肤效应带来的导体损耗,Df 可优化至 ≤ 0.002, 与 PTFE、碳氢树脂等低损耗基材均有优异结合力。 是 5G 通信、AI 服务器等高频高速场景的主力材料。

表面粗糙度 Rz≤ 2.0 μm
厚度范围12 – 105 μm(含超厚规格至 420 μm)
典型 Df≤ 0.003(Very Low Loss 至 Ultra Low Loss 级)
抗剥离强度≥ 0.8 – 1.0 kg/cm
典型应用5G 基站/天线、AI 服务器主板、HDI 高密度互连板、汽车雷达 PCB
HVLP
Hyper Very Low Profile · 极低轮廓铜箔
尖端旗舰

当前商用铜箔中表面最平滑的顶级产品,Rz 低至 1–1.5μm 甚至更低。 在 VLP 基础上进一步逼近粗糙度的物理极限,专为 28 GHz 以上毫米波 及 AI 训练集群的超高速互连设计。单台高端 AI 服务器的 HVLP 用量 可达传统服务器的十倍。随着全球算力基础设施扩容,供需持续紧张。

表面粗糙度 Rz1.0 – 1.5 μm(部分等级 ≤ 1.0 μm)
细分等级HVLP-1 / HVLP-2 / HVLP-3 / HVLP-4 / HVLP-5
典型 Df< 0.003(Ultra Low Loss 级)
插入损耗 @ 10 GHz≤ 0.35 dB/in
典型应用AI 训练/推理服务器、毫米波雷达(≥ 28 GHz)、高速交换机背板、卫星通信
BCF
Battery Copper Foil · 锂电池铜箔 / 电池集流体用铜箔
新能源主力

专用于锂离子电池负极集流体的电解铜箔,是锂电池的核心基础材料之一。 与 PCB 用铜箔不同,BCF 采用双光(双面光亮)表面处理, 质地柔软以适配电池卷绕工艺,同时具备优异的化学与电化学稳定性。 铜箔轻薄化是提升电池能量密度的关键路径——厚度从 12μm 逐步降至 6μm 甚至 4–5μm, 可直接降低电池重量约 5–9%,并减小内阻从而提升充放电效率。

表面形态双面光亮(双光),无粗化面
常用厚度6 μm / 8 μm (主流)/ 10 μm ;4–5μm 开发中
拉伸强度≥ 30 kg/mm²
延伸率≥ 5%
纯度要求≥ 99.7%(电子级)
核心优势质地柔软易卷绕、抗氧化/抗腐蚀、与负极材料高结合力
典型应用新能源汽车动力电池、消费锂电池、储能系统(ESS)

Selection Guide · 选型指南

如何选择合适的铜箔

根据信号速率、损耗预算和应用场景快速定位最佳方案。

铜箔类型 Rz 粗糙度 Df 损耗等级 适用信号速率 典型应用场景 相对成本
HTE 7–8 μm Standard
0.015–0.020
≤ 1 Gbps 多层板、高 Tg 板、汽车电子 ★★☆☆☆
RTF 4–6 μm Mid Loss
0.010–0.015
1–10 Gbps 手机主板、服务器内层、中速数字 ★★☆☆☆
LP 3–4 μm Low Loss
0.0065–0.01
10–25 Gbps 高速工控、网络设备、路由器 ★★★☆☆
VLP ≤ 2 μm Very Low Loss
0.003–0.0065
25–56 Gbps 5G 基站、AI 服务器、HDI 板、车载雷达 ★★★★☆
HVLP 1–1.5 μm Ultra Low Loss
< 0.003
≥ 56 Gbps / mmWave AI 训练集群、毫米波、卫星通信 ★★★★★ 最高
BCF 双光面
平滑无粗化
N/A
集流体功能件
— 新能源汽车动力电池、消费锂电、储能 ESS ★★★★☆

📐 供货形式

  • 卷料:幅宽最大 1295 mm
  • 片状:最大 1295 × 1295 mm
  • 支持定制厚度与特殊幅宽

✓ 质量认证

  • IATF 16949 汽车行业质量管理体系
  • ISO 9001 质量管理体系认证
  • 符合 IPC-4562 电解铜箔国际规范
  • 符合 GB/T 5230-2020 国标

Applications · 应用领域

终端应用全景

从消费电子到前沿算力基础设施,我们的全系列铜箔覆盖电子制造的每一个关键赛道。

5G 通信基础设施

基站天线、射频前端、毫米波模块。VLP/HVLP 配合 PTFE 基材,将插入损耗降至最低。

AI 服务器 & 数据中心

GPU 加速卡、高算力主板、高速交换机背板。HVLP-4/5 是当前 AI 算力硬件的核心受益材料。

HDI 高密度互连

智能手机、平板、可穿戴设备的任意层互连板。UTF + RCC 组合实现 L/S ≤ 20/20μm 微细线路。

汽车电子

新能源汽车动力控制、ADAS 毫米波雷达、车载网络与充电管理。HTE/VLP 满足车规级可靠性要求。

网络通信设备

高速交换机、路由器、光通信模块、测试测量仪器。RTF/VLP 是中高速数字电路的主流选择。

柔性电路 FPC

折叠屏、柔性显示模组、穿戴设备互联。VLP/HVLP 超薄规格配合 PI 基材实现极致轻薄弯折。

IC 封装 & 载板

半导体封装基板、类载板 SLP、FC-BGA 载板。UTF 5–9μm 超薄铜箔支撑先进封装微细布线。

军工 & 航天

大功率高频板、相控阵雷达、卫星通信终端。VLP-HTE 超厚规格(3–12 oz)满足极端工况。

Core Advantages · 核心优势

为什么选择我们的铜箔

六大维度构建差异化竞争力。

1

完整的粗糙度梯度

从 STD 的 7–8μm 到 HVLP 的 ≤1.5μm,九大系列形成无缝衔接的产品矩阵,任何信号速率都能找到最优解。

2

高频损耗行业领先

VLP/HVLP 系列 Df 值低至 0.002 以下,插入损耗比 STD 降低 50%+,实测数据对标国际一线品牌。

3

宽厚度覆盖能力

3.5μm 超薄到 420μm 超厚,卷料幅宽达 1295mm,单厂即可满足客户从 HDI 到大功率板、从 PCB 到锂电池的全品类采购需求。

4

基材兼容性全面

PTFE、碳氢树脂、改性环氧、BT 树脂、CE 积层板……全系铜箔均经过主流基材体系的结合力验证。

5

稳定的大规模交付

IATF 16949 + ISO 9001 双认证产线,月产能充足,已向多家头部 CCL 厂商及 PCB 企业批量供货多年。

6

定制化技术服务

技术支持团队可根据具体板材配方、层数结构和目标频率,推荐最优铜箔型号并协助完成可靠性验证。

获取样品与技术资料

全系列铜箔样品免费申请,技术团队为您提供一对一选型建议。